陰圖(tu)片準(zhun)備_+裁(cai)切_+背(bei)面曝(pu)光_÷正(zheng)面曝(pu)光一(yi)顯影(ying)沖洗(xi)👺一烘(hong)幹。去(qu)
黏-÷後(hou)曝光(guang)。
    ①陰圖(tu)片準(zhun)備。
    a.測(ce)量陰(yin)圖片(pian)的尺(chi)寸并(bing)檢查(cha)最大(da)密度(du)值，應(ying)大于(yu)或😍等(deng)于4.0。
    b．檢(jian)查陰(yin)圖片(pian)質量(liang)，查看(kan)網點(dian)清晰(xi)度、文(wen)字線(xian)條應(ying)整😵‍💫齊(qi)實在(zai)，
圖文(wen)部分(fen)有無(wu)劃傷(shang)和髒(zang)污，并(bing)用抗(kang)靜電(dian)毛刷(shua)清掃(sao)陰圖(tu)💔片。
    c．檢(jian)查圖(tu)文方(fang)向是(shi)否正(zheng)确，正(zheng)面印(yin)刷時(shi)，從乳(ru)劑一(yi)側🙆🏿看(kan)圖文(wen)應
是(shi)正向(xiang)；而反(fan)面印(yin)刷（裏(li)印）時(shi)，從乳(ru)劑一(yi)側肴(yao)圖文(wen)應是(shi)反向(xiang)💌。
    ②裁切(qie)。确定(ding)版材(cai)的型(xing)号和(he)厚度(du)後，可(ke)對版(ban)材進(jin)行裁(cai)切，裁(cai)切時(shi)
應根(gen)據陰(yin)圖片(pian)尺寸(cun)，版邊(bian)預留(liu)12mm的夾(jia)持餘(yu)量，正(zheng)面朝(chao)上進(jin)行
裁(cai)切。
    ③背(bei)面曝(pu)光。是(shi)指從(cong)版材(cai)背面(mian)對印(yin)版進(jin)行全(quan)面均(jun)勻的(de)曝光(guang)，如圖(tu)😈
2 -8 (a)所示(shi)。将印(yin)版放(fang)人曝(pu)光裝(zhuang)置，把(ba)印版(ban)正面(mian)朝下(xia)放在(zai)曬👿版(ban)架
上(shang)吸緊(jin)，進行(hang)曝光(guang)。背面(mian)曝光(guang)主要(yao)目的(de)是建(jian)立印(yin)版的(de)浮雕(diao)深🧑🏽‍🎄度(du)，加強(qiang)
聚酯(zhi)支撐(cheng)層和(he)感光(guang)樹脂(zhi)層的(de)黏着(zhe)力，并(bing)可減(jian)少正(zheng)👩🏿‍❤️‍💋‍👨🏽面曝(pu)光的(de)時間(jian)。背面(mian)
曝光(guang)時間(jian)長短(duan)決定(ding)了版(ban)基的(de)厚度(du)，曝光(guang)時間(jian)越長(zhang)，版基(ji)越厚(hou)，印💞版(ban)硬
度(du)也越(yue)大。

 

④正(zheng)面曝(pu)光。也(ye)稱爲(wei)主曝(pu)光，是(shi)通過(guo)陰圖(tu)片對(dui)柔性(xing)版材(cai)的正(zheng)面
進(jin)行全(quan)面曝(pu)光，将(jiang)陰圖(tu)片上(shang)的圖(tu)文信(xin)息轉(zhuan)移到(dao)版材(cai)上💫的(de)過程(cheng)。如圖(tu)
2-8 (b)所示(shi)。
    a．曝光(guang)光源(yuan)。一般(ban)采用(yong)紫外(wai)燈管(guan)和高(gao)壓水(shui)銀燈(deng)作爲(wei)光源(yuan)。這種(zhong)
燈曝(pu)光效(xiao)率高(gao)，曝光(guang)時間(jian)短，提(ti)高了(le)印版(ban)的層(ceng)次範(fan)😸圍。若(ruo)要制(zhi)作精(jing)細
網(wang)目版(ban)應采(cai)用2 -3kW的(de)超高(gao)壓水(shui)銀燈(deng)，以保(bao)證良(liang)好的(de)層次(ci)再現(xian)。
    b．具體(ti)操作(zuo)。一般(ban)可按(an)照下(xia)列順(shun)序進(jin)行正(zheng)面曝(pu)光。
    i．放(fang)置版(ban)材。将(jiang)版材(cai)正面(mian)朝上(shang)放在(zai)曬版(ban)台上(shang)，并撕(si)下保(bao)🧑🏻‍❤️‍🧑🏼護膜(mo)👋。
    ii．貼合(he)陰圖(tu)片。将(jiang)陰圖(tu)片的(de)乳劑(ji)面與(yu)版材(cai)的正(zheng)面貼(tie)合在(zai)一起(qi)，
并用(yong)抗靜(jing)電刷(shua)子把(ba)版面(mian)和負(fu)片清(qing)掃幹(gan)淨。
    iii.覆(fu)蓋聚(ju)酯膜(mo)。未被(bei)負片(pian)覆蓋(gai)的版(ban)面用(yong)條狀(zhuang)聚酯(zhi)或😜醋(cu)⛹🏻‍♀️酸💞纖(xian)維膜(mo)
覆蓋(gai)之，以(yi)防止(zhi)最上(shang)層的(de)覆蓋(gai)膜粘(zhan)到發(fa)黏的(de)版面(mian)上，并(bing)爲抽(chou)真空(kong)創造(zao)
通氣(qi)條件(jian)。
    iv.覆蓋(gai)塑料(liao)片。将(jiang)條狀(zhuang)聚酯(zhi)膜、版(ban)材和(he)負片(pian)用一(yi)張塑(su)料片(pian)👧🏾統💔統(tong)
蓋住(zhu)，用軟(ruan)布抹(mo)平，将(jiang)膜間(jian)的空(kong)氣排(pai)出。

    V.抽(chou)真空(kong)。抽真(zhen)空時(shi)應控(kong)制真(zhen)空壓(ya)力，一(yi)般情(qing)況下(xia)，真空(kong)👾壓力(li)
應在(zai)0. 8Pa以上(shang)。
    VI.曝光(guang)。抽真(zhen)空後(hou)，開啓(qi)光源(yuan)，即可(ke)進行(hang)曝光(guang)。
    ．曝光(guang)時間(jian)。曝光(guang)時間(jian)取決(jue)于負(fu)片上(shang)圖文(wen)的種(zhong)類，細(xi)線條(tiao)和網(wang)
點需(xu)要的(de)曝光(guang)量比(bi)實地(di)陰文(wen)的多(duo)。曝光(guang)時間(jian)因光(guang)源😘的(de)強度(du)👧🏾、版的(de)厚度(du)
不同(tong)而不(bu)同，對(dui)于厚(hou)爲2 -4mm厚(hou)的版(ban)，曝光(guang)時間(jian)一般(ban)是幾(ji)分鍾(zhong)到十(shi)
幾分(fen)鍾。
    柔(rou)性版(ban)曬版(ban)也可(ke)采用(yong)圓形(xing)曝光(guang)的方(fang)法，
如(ru)圖2-9所(suo)示。
    把(ba)按尺(chi)寸要(yao)求裁(cai)好的(de)感光(guang)版材(cai)撕去(qu)保護(hu)
膜，用(yong)雙面(mian)膠帶(dai)把它(ta)的片(pian)基面(mian)粘貼(tie)在裝(zhuang)版輥(gun)
上，用(yong)有膠(jiao)的連(lian)接片(pian)和陰(yin)圖片(pian)連接(jie)好，把(ba)圖
像(xiang)或文(wen)字位(wei)置與(yu)感光(guang)柔印(yin)版接(jie)口對(dui)好，拉(la)緊
彈(dan)簧。開(kai)燈、開(kai)動馬(ma)達，使(shi)從A點(dian)到B點(dian)的
時(shi)間恰(qia)好等(deng)于平(ping)面曝(pu)光的(de)時間(jian)，就這(zhe)樣一(yi)面
轉(zhuan)動，一(yi)面曝(pu)光，直(zhi)到最(zui)後圖(tu)文離(li)開B位(wei)
置。圓(yuan)形曬(shai)版對(dui)于曬(shai)制套(tao)色版(ban)很有(you)必要(yao)，可
解(jie)決套(tao)色不(bu)準和(he)陰圖(tu)尺寸(cun)需計(ji)算糾(jiu)正的(de)
問題(ti)。
    ⑤顯影(ying)沖洗(xi)。版面(mian)經曝(pu)光後(hou)，見光(guang)部分(fen)
硬化(hua)，未硬(ying)化的(de)部位(wei)樹脂(zhi)需要(yao)用顯(xian)影液(ye)溶劑(ji)
除去(qu)的工(gong)藝過(guo)程，稱(cheng)爲顯(xian)影。如(ru)圖2-8 (c)
所(suo)示。

    顯(xian)影的(de)目的(de)是除(chu)去未(wei)見光(guang)部分(fen)的感(gan)光樹(shu)脂，形(xing)成凸(tu)起的(de)…浮雕(diao)圖
文(wen)。未曝(pu)光的(de)部位(wei)在溶(rong)劑的(de)作用(yong)下用(yong)刷子(zi)除去(qu)，刷下(xia)去的(de)深度(du)就是(shi)圖
文(wen)浮雕(diao)的高(gao)度。而(er)顯影(ying)的時(shi)間由(you)版材(cai)的厚(hou)度和(he)版面(mian)圖文(wen)的面(mian)積所(suo)确
定(ding)，不同(tong)的版(ban)材采(cai)用不(bu)同的(de)顯影(ying)液。一(yi)般薄(bao)版，小(xiao)圖👀文(wen)面💌積(ji)時，顯(xian)影
時(shi)間不(bu)超過(guo)10分鍾(zhong)。而對(dui)于厚(hou)版，圖(tu)文面(mian)積較(jiao)大時(shi)，顯影(ying)^時間(jian)🥑️可控(kong)
制在(zai)20分鍾(zhong)左右(you)。若顯(xian)影時(shi)間不(bu)足會(hui)出現(xian)浮雕(diao)深度(du)淺🧎🏻‍♀️‍➡️、底(di)面不(bu)平，
甚(shen)至出(chu)現浮(fu)渣等(deng)。反之(zhi)顯影(ying)時間(jian)過長(zhang)，則會(hui)出現(xian)圖文(wen)破損(sun)😗、變形(xing)及版(ban)面高(gao)低不(bu)平等(deng)現象(xiang)。一般(ban)顯影(ying)都是(shi)在專(zhuan)用顯(xian)影機(ji)内完(wan)成。每(mei)次顯(xian)影後(hou)
都應(ying)适當(dang)補充(chong)新鮮(xian)的顯(xian)影液(ye)，以保(bao)持顯(xian)影液(ye)中樹(shu)脂含(han)量…的(de)穩👽定(ding)性。否(fou)
則會(hui)造成(cheng)版面(mian)顯影(ying)的品(pin)質問(wen)題。
    ⑥烘(hong)幹。沖(chong)洗顯(xian)影後(hou)的印(yin)版，由(you)于大(da)量溶(rong)劑滲(shen)入到(dao)版材(cai)内🧎🏻‍♀️‍➡️部(bu)，造
成(cheng)出現(xian)印版(ban)膨脹(zhang)變厚(hou)，變得(de)黏而(er)軟，圖(tu)文變(bian)形等(deng)現🧑🏻‍❤️‍🧑🏼象(xiang)。如果(guo)🙂‍↔️依靠(kao)自然(ran)
揮發(fa)則需(xu)很長(zhang)時間(jian)，爲此(ci)應采(cai)用烘(hong)箱或(huo)熱風(feng)來進(jin)行幹(gan)🧑🏽‍❤️‍💋‍🧑🏻燥。烘(hong)😜箱的(de)溫度(du)
應保(bao)持在(zai)50—70C，幹燥(zao)時間(jian)厚版(ban)幹燥(zao)需要(yao)長一(yi)點，而(er)薄版(ban)則短(duan)😮‍💨一
點(dian)。幹燥(zao)時間(jian)和溫(wen)度不(bu)夠，不(bu)能充(chong)分幹(gan)燥，版(ban)面膨(peng)脹💞不(bu)~均😥勻(yun)，印♌️刷(shua)時
會(hui)出現(xian)爛版(ban)現象(xiang)；溫度(du)過高(gao)會使(shi)版材(cai)變形(xing)，并不(bu)能✍🏻複(fu)㊙️原，甚(shen)至變(bian)脆而(er)
影響(xiang)印版(ban)壽命(ming)。如圖(tu)2-8 (d)所示(shi)。
    ⑦去黏(nian)。也稱(cheng)爲後(hou)處理(li)，印版(ban)經顯(xian)影幹(gan)燥後(hou)，版面(mian)具有(you)一定(ding)的🏃🏿‍♀️‍➡️黏(nian)
性。去(qu)黏的(de)目的(de)就是(shi)去除(chu)版面(mian)的黏(nian)性，增(zeng)強版(ban)面的(de)着墨(mo)能力(li)💞。目🧑🏽‍❤️‍💋‍🧑🏻前(qian)常
用(yong)的去(qu)黏方(fang)法有(you)三種(zhong)，即光(guang)處理(li)法、化(hua)學處(chu)理法(fa)和噴(pen)粉處(chu)理法(fa)。而去(qu)
黏可(ke)在後(hou)曝光(guang)前也(ye)可在(zai)後曝(pu)光後(hou)進行(hang)。
    a．光處(chu)理法(fa)。用波(bo)長爲(wei)245nm的短(duan)波光(guang)源（也(ye)即UV-C光(guang)源），
對(dui)版面(mian)進行(hang)短時(shi)間的(de)照射(she)，光照(zhao)時間(jian)取決(jue)于顯(xian)影和(he)烘幹(gan)時㊙️間(jian)，以能(neng)達
到(dao)去黏(nian)爲宜(yi)。時間(jian)過短(duan)不能(neng)達到(dao)去黏(nian)目的(de)，時間(jian)過長(zhang)會造(zao)成印(yin)版開(kai)裂
變(bian)脆。如(ru)圖2-8 (e)所(suo)示。
    b．化(hua)學處(chu)理法(fa)。用化(hua)學溶(rong)劑對(dui)版面(mian)進行(hang)的去(qu)黏處(chu)理法(fa)，按所(suo)用
處(chu)理溶(rong)劑不(bu)同有(you)兩種(zhong)方式(shi)，即氯(lü)化處(chu)理（漂(piao)白粉(fen)水溶(rong)液）和(he)溴化(hua)處理(li)
（鹽酸(suan)和溴(xiu)化物(wu)溶液(ye)）。去黏(nian)處理(li)時間(jian)主要(yao)取決(jue)于版(ban)材的(de)類型(xing)、去黏(nian)液
配(pei)方和(he)溫度(du)等，去(qu)黏處(chu)理後(hou)須用(yong)清水(shui)沖洗(xi)幹淨(jing)。
    c．噴粉(fen)處理(li)法。将(jiang)細玉(yu)米粉(fen)或滑(hua)石粉(fen)噴灑(sa)在版(ban)面上(shang)的處(chu)理方(fang)💁🏼‍♀️法，
這(zhe)種方(fang)法簡(jian)單易(yi)行，但(dan)不适(shi)合于(yu)細線(xian)條和(he)網目(mu)版，因(yin)爲ˇ噴(pen)粉😺會(hui)導緻(zhi)版
面(mian)堆墨(mo)。
    ⑧後曝(pu)光。就(jiu)是在(zai)幹燥(zao)、去黏(nian)後對(dui)印版(ban)表面(mian)進行(hang)最後(hou)的全(quan)面而(er)均👾
勻(yun)的曝(pu)光。目(mu)的是(shi)使版(ban)材内(nei)部沒(mei)有硬(ying)化的(de)樹脂(zhi)徹底(di)交聯(lian)，全面(mian)硬化(hua)達
到(dao)工藝(yi)所需(xu)的硬(ying)度，提(ti)高印(yin)版的(de)耐印(yin)力和(he)耐溶(rong)劑性(xing)。但是(shi)若印(yin)版的(de)硬
度(du)過高(gao)，對細(xi)線條(tiao)和網(wang)目調(diao)印版(ban)，會出(chu)現圖(tu)文變(bian)形、小(xiao)網點(dian)丢失(shi)🙂‍↔️等現(xian)
象，因(yin)此後(hou)曝光(guang)時間(jian)和光(guang)強度(du)要控(kong)制好(hao)。如圖(tu)2-8 (f)所示(shi)。

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